高速/高精度のウエハー平坦度測定装置の試作開発

主力は電子計測器で、半導体・薄膜の抵抗率や厚さの測定を得意分野とし、平成25年度の売上高は5億6,218万円である。シリコンウェハーの平坦度測定は半導体製造に欠かせず、8インチ以下のデバイスメーカーには一定の需要が残っている。一方、パワー半導体や太陽電池の急速な発展により、サファイヤやSiCなど様々なウェハーの平坦度測定需要も高まっている。

平成24年度ものづくり中小企業・小規模事業者試作開発等支援補助金を活用し、平成25年度に静電容量式平坦度測定装置の試作開発を実施して試作装置1台を作成した。この装置を用いて展示会（セミコン・ジャパン等）に出展し販売宣伝を行うとともに、測定安定性能の改良改善を実施した。平成26年度初めにはスタンドアロン装置（貸出機）を1台製造し、台湾の企業に貸し出している。本事業では、測定ウェハー毎に有限要素法計算方式を提案して計算ソフトウェアを開発し、構造的な誤差源を削減した新しい機構を試作して高速・高精度測定システムのスタンドアロン装置を開発する計画である。

試作した卓上型測定装置は数回の展示会で顧客から良好な評価を得ており、事業化の目途が立っている。国内1号機はシリコンウェハーの抵抗率自動分類機に組み込んで平成27年2月末に出荷し、今後評価を進める予定である。国内外の複数社にスタンドアロン装置やウエハソータへの見積もりを提示しており、特に中国で見込み客に直接デモができるよう検討している。

海外A社の30年間の独占によりA社の仕様とデータが業界標準となっており、仕様の合わせ込み要求が大きい。改善作業には1年近くかかっており、高精度測定のための測定環境整備も課題である。温調付きのクリーンルームまたはクリーンブースの整備も検討しており、課題をクリアできれば国内外の顧客の関心から市場は十分期待できると見込んでいる。